厂区鸟瞰
厂区俯拍
产业园区位置
东立面图
南立面图南立面
建筑近景
轴测图
厂区内外视角
项目名称 | 国方电子研发中心
设计单位 | 平介设计,苏州大学建筑学院
公司网站:https://www.parallect-design.com/
项目地点 | 苏州市相城区
建筑面积 | 19200㎡
设计时间 | 2018
完成年份 | 2022
设计团队 | 肖湘东,景万谦,曹开源,张婉慧,王海东,陈磊,杨楠,李文靖,孔祥鹏,瞿树昊,丁敏,姜樱,邓伍昕子,靳镕烨
合作单位 | 无锡市都市建筑设计有限公司、江苏南通二建集团有限公司
客户单位 | 苏州国方汽车电子有限公司
平介设计(Parallect Design)于2017年成立于荷兰,是一家立足于长三角和荷兰的多元化设计工作室。我们是一个广义设计的小组,建筑规划是我们切入市场的主力,同时我们介入空间、室内、景观、平面、展示等设计项目。我们认为“设计”“策划”“方案”这些词其实都是同义词,目的就是“通过设计策略解决一个具体问题”。设计团队拥有不同的教育和工作背景,并希望在这样多元文化背景相互融合冲击的工作氛围中,不断打破设计的“传统”。针对不同环境下设计的问题, 提出富有实验精神的设计思路。我们追随使用者的平行视角,介入设计,强调空间的实际体验。着眼设计艺术性、功能性、经济性的同时,不断挖掘空间潜能和使用者的潜在需求。我们也鼓励多方的讨论和合作伙伴的积极参与,共同完成更有价值的设计。
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